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k8等离子清洗机AP Plasma Equipment(Package B)招标公告
时间2020-11-05 20:12

  等离子清洗机AP Plasma Equipment(Package B)招标公告

  等离子清洗机AP Plasma Equipment(Package B)招标公告

  项目概况:第10.5代薄膜晶体管液晶显示器件(TFT-LCD)30K扩产项目

  招标项目名称:第10.5代薄膜晶体管液晶显示器件(TFT-LCD)30K扩产项目

  设备要求:该系统主要是应用于TFT-略业中曝光工艺Niko略气体净化,防止lens产生雾化。要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质,在操作过程中操作者的视线要好。所选略元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,略稳定可靠,售后服务优良。

  本设备主要用于获得并保持目标设备的需求真空度。要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质,在操作过程中操作者的视线要好。所选略元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,略稳定可靠,售后服务优良。

  本设备主要用于TFT- LCD玻璃基板切割略理。要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质,在操作过程中操作者的视线要好。所选略元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,略稳定可靠,售后服务优良。

  等离子清洗机AP Plasma Equipment(Package B)

  本设备主要用于阵列湿法刻蚀机、阵列在线清洗机、成盒PI清洗机(湿洗前)、彩膜BM清洗机前端略理。要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质,在操作过程中操作者的视线要好。所选略元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,略稳定可靠,售后服务优良。

  该系统主要是应用于TFT-略业中曝光工艺前的温度均匀性控制。要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,保证系统具有良好的动态品质,在操作过程中操作者的视线要好。所选略元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,略稳定可靠,售后服务优良。

  投标人应具备的资格或业绩:略、k8,略文件,并参加投标竞争的法人或其他组织。凡是来自中华人民共和国或是与中华人民共和国有正常贸易往来的国家或地区的法人或其他组织均可投标。

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